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使用光譜儀測定鋁水中硅、鐵元素

返回列表 來(lái)源: 儀德 發(fā)布日期: 2023.03.21

在鋁電解生產(chǎn)過(guò)程中,會(huì )出現一些破損槽致使金屬鋁樣中雜質(zhì)元素,特別是硅、鐵兩要雜質(zhì)元素的含量大幅度提高。硅、鐵元素含量的增大幅度與電解槽破損程度成正比例關(guān)系。如要跟蹤電解槽工作情況,實(shí)現生產(chǎn)過(guò)程的控制,就必須快速、準確地測定硅、鐵的含量。

 

這種金屬鋁樣中,硅、鐵元素含量變化復雜,二者間含量變化也沒(méi)有一定的比例關(guān)系,在光譜同時(shí)測定時(shí),難以找到合適的內控樣,在光譜儀精密度、穩定性都較好的前提下,一個(gè)試樣光譜值的準確度就基本上取決于內控樣的定值。在測定這種金屬鋁樣時(shí)發(fā)現,在鐵元素含量大于 2.6% 時(shí),硅、鐵相互干擾,并且隨二者含量變化不同而相互干擾的程度也不同。

 

在分析測試中同時(shí)發(fā)現,光譜儀原裝的鋁合金分析程序,在鐵含量大于 3%時(shí),分析的準確度差,原因可能是原鐵校準曲線(xiàn)上點(diǎn)子數少, 在大量試驗的基礎上,本文通過(guò)重新選擇分析線(xiàn)對,延伸原有曲線(xiàn),回歸計算。這條重新校正過(guò)的鐵校準曲線(xiàn)上點(diǎn)子數較多,分析準確度高, 測定結果與化學(xué)法吻合。

 

通過(guò)大量試驗發(fā)現,對于鐵含量大于 2.6% 的金屬鋁樣,可根據含量的大小分為兩類(lèi):第一類(lèi)為硅含量大于 1% ; 第二類(lèi)為硅含量小于 1%。測定時(shí),對第一類(lèi)鋁樣,在鋁合金分析程序中分別測定硅、鐵元素含量;對第二類(lèi)鋁樣, 在普鋁分析程序測定硅含量,再在鋁合金分析程序中測定鐵元素含量, 在對一個(gè)鋁樣進(jìn)行硅、鐵分別測定時(shí),分別使用相應的內控樣進(jìn)行單個(gè)元素含量的校正,本方法快速、準確,經(jīng)與化學(xué)法比對十分吻合。

 

一、實(shí)驗部分

 

1.  儀器與測試

德國SPECTRO LAB 光譜儀

氣純度為99.998%

 

2.  光源參數選擇

為了獲得滿(mǎn)意的光源參數,將氣沖洗時(shí)間、預燃時(shí)間、火花積分、電弧積分按不同的時(shí)間組合做了大量試驗,最后確定的光源參數見(jiàn)1 。

表1

表1

 

3.  樣品分析

取硅、鐵含量不同的塊狀金屬鋁樣,對硅、鐵元素分別進(jìn)行光譜測定,測定結果見(jiàn)表2。 從表2可知,本方法測定的準確度高,能滿(mǎn)足生產(chǎn)檢驗的需要。

表2

表2

 

4.  方法精密度

3是在選擇的光源參數下對金屬鋁樣進(jìn)行十次測定的結果。從表3可知,本方法 具有較高的精度。

表3

表3

 

二、 結果與討論

 

本方法準確度高、精度好。與化學(xué)法比較,快速簡(jiǎn)便,節省人力、財力,對實(shí)現鋁電解生產(chǎn)過(guò)程的控制有著(zhù)現實(shí)意義。

 

本文采集于光譜分析論文集

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